Многие технологические гиганты объединяют свои усилия для работы над 32-нм технологиями; на сей раз также произошло нечто подобное, и объединиться решили компании Panasonic и Renesas. Как сообщается, двум компаниям уже удалось достичь некоторых успехов на этом поприще, и возможным это стало, благодаря идее использовать пленки оксидов металлов (вместо кремниевых соединений) для изолирующего слоя, а также нитрида титана в качестве проводящего слоя. Это позволит устройствам, изготовленным на основе таких элементов потреблять меньше энергии по сравнению с существующими прототипами 32-нм аналогов. А последние, в свою очередь выигрывают у существующих уже и на коммерческом рынке 45-нм образцов.
Единственное, что вызывает здесь некоторые сомнения и даже замешательство, это тот факт, что работы закончатся только в 2011 году, в то время как у компании IBM эта планка установлена на 2010 год, а у Samsung и Intel — уже на 2009-й.
